由于纳米氧化铈(VK-CE01 30nm)具有强氧化作用,作为层间二氧化硅介电层抛光的研磨粒子具有平整质量高,抛光速率快,选择性好的优点。纳米氧化铈粒子比二氧化硅粒子柔软,在抛光过程中,不容易挂上玻璃抛光面,而且具有抛光速率快的优点,这主要是纳米氧化铈粒子在抛光过程中所起的化学作用。
首先纳米氧化铈粒子通过化学反应与抛光表面Si之间形成Ce-O-Si键,纳米氧化铈粒子便把玻璃表面的部分SiO2撕咬下来,进入溶液中;经过分散后,二氧化硅粒子又从二氧化铈粒子表面脱落下来,Ce-O-Si键的形成与Si-O-Si键的断裂影响着抛光速率,化学解聚作用和机械撕咬作用同时影响着Si-O-Si键的断裂。